通过上面的介绍，我们在施工硬化地坪时，非常有必要用地坪抛光液进行抛光，因为地坪抛光液不单单只是提高地坪的光泽度，还能提高地面抗渗、防尘、抗污保洁的功能，让地坪更有质感的同时，也能更好的对地面进行养护。可以说硬化地坪使用抛光液进行抛光并非画蛇添足而是锦上添花，让硬化地坪的效果更上一层楼！

一、地坪抛光液的概述：

生产的浓缩型渗透光亮剂，是采用了源自德国的特种高分子材料，极其耐用，可以抗磨损、防刮伤、防刻划的功能，用途非常广泛，可用于水泥制品、大理石、水磨石、耐磨骨料等为基础表面抛光。它的特点就是渗入地坪，在干燥的过程中和混凝土粘结在一起，干燥后经过物理抛光，能赋予地坪超亮的光泽的同时，还能提高表面的防水、防尘、抗污保洁和抗磨性能。

二、地坪抛光液的适用范围：

金刚砂耐磨地坪、混凝土密封固化地坪、水磨石地坪、大理石等产品的表面抛光之用。

抛光液是由多种化工溶液配制而成的溶液，它在抛光工艺中有重要的地位，合理选择抛光液，能使加工出来的工件表面光亮美观，色泽鲜艳，光亮夺目，还可以防止工件的锈蚀，保持与提高工件表面的光泽，起到清洁工件与磨具的作用。去除油污，软化工件表面以加速磨消，减少磨具对工件的冲击，改善工件条件。它具有，无腐蚀，不易变质等性能。

抛光液的种类很多，应根据加工条件来选择。在光整效率，工作的研磨质量，抛光的光洁度等方面。抛光液都显示出其独特的效果。

依据机械加工原理、半导体材料工程学、物力化学多相反应多相催化理论、表面工程学、半导体化学基础理论等，对硅单晶片化学机械抛光（CMP）机理、动力学控制过程和影响因素研究标明，化学机械抛光是一个复杂的多相反应，它存在着两个动力学过程：

（1）抛光首先使吸附在抛光布上的抛光液中的氧化剂、催化剂等与衬底片表面的硅原子在表面进行氧化还原的动力学过程。这是化学反应的主体。